详细介绍

Ganister™ A离子束沉积设备，是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的专用产品，在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成膜，靶材选择范围广。而其采用的四槽旋转靶材基座，更可处理多达四种靶材。选配的辅助离子源，可以实现原位预清洗、优化膜层致密性等功能。此外，Ganister™ A的辅助离子源也可进行离子束刻蚀，一个腔室内兼备两种工艺，显著提高了该设备的功能。