8英寸离子束沉积(IBD)设备
Ganister™ A离子束沉积设备,是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的专用产品,在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成膜,靶材选择范围广。而其采用的四槽旋转靶材基座,更可处理多达四种靶材。选配的辅助离子源,可以实现原位预清洗、优化膜层致密性等功能。此外,Ganister™ A的辅助离子源也可进行离子束刻蚀,一个腔室内兼备两种工艺,显著提高了该设备的功能。