LHQ-200等离子体增强型化学气相沉积设备
 

   

【产品介绍】

等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)是在化学气相沉积(CVD)技术基础上,通过高频电源将反应气体电离为等离子体,然后发生化学反应,并在衬底表面形成所需的薄膜,可以用来制备高纯、高性能固体薄膜。

LHQ-200具有性能稳定、成膜范围广、重复性好等优点,可以用于制备多种不同形态的薄膜,是实验室薄膜制备的基础设备之一。

【产品特点】

l 由反应腔室、真空获得系统、下电极、射频电源及匹配器、反应气路及质量流量计、真空检测系统、电气控制系统、控制软件等组成

l 能淀积SiO2SiNx、非晶硅、多晶硅、α-Clow-k等薄膜材料

l 配有两级匀气结构,有利于获得高质量薄膜

l 反应腔室采用耐腐蚀材质,可以保证腔室真空性能

l 真空获得系统可以由耐腐蚀高端干泵、分子泵(选配)等组成,根据用户需求灵活组合

l 下电极具备加热功能,适用于200mm及以下尺寸样品

l 采用进口射频电源,配有自动匹配器

l 可以根据用户需求灵活配置工艺气体,配有进口高精度质量流量计,精准控制反应气体流量

l 配置高精度工艺真空规和集成调压阀,精确控制系统压力

l 工艺流程全自动,带有工艺数据库,提供推荐的工艺菜单

l 机台安全机制由软硬互锁(interlock)两级组成,配有互锁、报警等安全措施

l 带有干法清洗功能,避免腔室污染


【产品配置及指标】

l 反应腔室:                          1套;

l 真空获得系统:                   1

l 下电极:                              1

l 射频电源及匹配器:           1套,频率13.56MHz

l 反应气路及质量流量计:    根据用户需求配置

l 真空检测系统:                   1

l 电气控制系统:                   1

l 控制软件:                           1

l 选配loadlock自动传输系统

l 选配低频射频电源


【主要应用】

应用于集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域。

地址:江苏省邳州市海河西路16号 电话:+86 516 86291377

邮箱:sales@leuven-instruments.com