LVPD-300气相分解金属沾污收集机台

    

【产品介绍】

鲁汶仪器专利产品,专为集成电路、硅衬底生产线及先导工艺研发平台的金属沾污控制而研制,用于晶圆、腔室表面金属元素释放和收集

【产品特点】

l 包含气相腐蚀、对中、沾污收集、晶圆自动传输、化学液自动供液、干燥等模块

l 兼容300mm200mm晶圆,无需切换传输模块,全自动化工艺

l 气相腐蚀模块可以单独用在MEMS微机电器件的释放工艺中

l 采用气相腐蚀方式,对金属元素具有更高的腐蚀选择比

l 采用鲁汶仪器专利反应腔室,是目前市面上最安全的气相腐蚀腔体

l 配备变速抽气模块,避免腔体在腐蚀工艺和吹扫切换过程中为了快速适应进气流量而产生的形变

l TXRF配合使用,可以提高TXRF检测底限2个数量级

l 整套系统设计、生产符合semi标准 

l 检测的主要沾污金属元素:
NaMgAlKCaTiVCrMnFeCoNiCuZnYZrMoPdLaCeWGeDyHfTaPtAuRu

【产品配置及指标】

l 可处理晶圆大小:     200mm300mm(全程自动化),100mm150mm(手动传片);

l Loadport:              1~2个;

l 晶圆传送机器人:     1个(200mm300mm兼容),含耐腐蚀手臂1套;

l 气相腐蚀腔室:         1个;

l Aligner:                  1个(200mm300mm兼容);

l 晶圆扫描台:             1个;

l 干燥腔室:                 1个;

l 化学品操作机器人:  1个(手臂耐腐蚀涂层);

l 机台内净化环境:      Class 1级。

【主要应用】

用于晶圆、腔室表面金属元素释放和收集,

应用行业:

硅衬底、晶圆生产商,集成电路加工厂,先导工艺腔室检测等

地址:江苏省邳州市海河西路16号 电话:+86 516 86291377

邮箱:sales@leuven-instruments.com